Apreo 2S场发射扫描电子显微镜
[ 基础信息 ]
生产国家 : 捷克
制造厂商 : 赛默飞
购置日期 : 2025-12-18
规格型号 : Apreo 2S HiVac
[ 分类信息 ]
设备类型 : 材料微区与表面分析
设备编号 :
[ 联系信息 ]
联系人 : 陈佳阳
存放地址 : 高水平实验楼A座104
联系电话 : 86502740
联系邮箱 : chenjy@stu.edu.cn
[ 附加信息 ]
主要附件及配置 :
探测器：ETD/T1/T2/T3/DBS
EDS: 牛津Xplore 65
主要功能及特色 :
Apreo 2S HiVac高分辨场发射扫描电子显微镜，配置了三种物镜模式：标准模式、静电物镜模式（搭配镜筒内减速技术）、超高分辨磁浸没模式，具有全方位纳米或微纳米分辨率性能，可以灵活的应对纳米颗粒、粉末、催化剂、金属、陶瓷、聚合物、复合材料、半导体等各类样品 。此外，电镜配备了多个不同用途的检测探头，包括镜筒内3个高分辨的电子探头、插入式背散射探头DBS、 样品品仓内二次电子探头ETD和EDS，可进行高分辨率的形貌观测、成分及元素分析。
主要规格及技术指标 :
分辨率：高真空模式：0.5nm@15kV，（减速模式）；0.8nm@1kV（减速模式）；0.9nm@1kV（非减速模式），工作距离10mm。电压范围：0.2kV-30kv。放大倍率：50-2000000倍。探针电子束流范围：1pA-50nA。电子束减速模式。着陆电压：20V-30kV。探测器：ETD/T1/T2/T3/DBS，EDS ：65mm2
